CYL588.VIP 一塔半导体肯求外延开荒专利, 提升薄膜助长的膜厚均匀性
发布日期：2024-10-01 10:45 点击次数：192
金融界2025年1月27日讯息，国度学问产权局信息袒露CYL588.VIP，一塔半导体（安徽）有限公司肯求一项名为“一种外延开荒的反映器及外延开荒”的专利，公开号CN119352149A，肯求日历为2024年10月。
专利选录袒露，本发明公开了一种外延开荒的反映器及外延开荒，包括反映腔，所述反映腔由所述反映器的腔盖、侧壁、底座界定，所述反映腔内设有基座，所述基座上设有载片盘，加热装配；所述腔盖包括中央进气组件、冷却组件、以及围绕所述中央进气组件诞生的左近进气组件，中央进气组件用于向所述反映腔中吹出反映气体，所述左近进气组件用于向所述反映腔中吹出载气，彩娱乐登陆网址所述冷却组件包括冷却通谈，所述冷却通谈至少部分诞生在所述中央进气组件、所述左近进气组件的角落；当所述反映腔内进行薄膜生永劫，所述左近进气组件吹出的载气可与所述反映气体相碰撞以转变所述待加工件上的薄膜助长速率。本发明不错提升薄膜助长的膜厚均匀性还能灵验对腔盖进行降温。
天眼查贵府袒露，一塔半导体（安徽）有限公司，建造于2024年，位于合肥市，是一家以从事计较机、通讯和其他电子开荒制造业为主的企业。企业注册成本613.33万东谈主民币。通过天眼查大数据分析，一塔半导体（安徽）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标技俩1次，学问产权方面有商标信息11条，专利信息6条，此外企业还领有行政许可2个。
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